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Conferencia completamente virtual de Nagoya

El 33.er Simposio Internacional sobre Dispositivos Semiconductores de Energía y Circuitos Integrados (ISPSD) se llevará a cabo del 30 de mayo al 3 de junio de 2021 como CONFERENCIA COMPLETAMENTE VIRTUAL.
El Simposio incluye debates técnicos sobre dispositivos semiconductores de energía y circuitos integrados, tecnologías híbridas y aplicaciones relacionadas.

Contribuciones de Hitachi Energy

Fecha/hora (Hora de Europa Central)

Transmisión

Documento técnico

Autores

Miércoles 02/06/2021
de 05:35 a 06:00 h

Sesión 6: Resistencia y fiabilidad de dispositivos de carburo de silicio (SiC)

Estudio de estabilidad con voltaje límite de transistor de efecto de campo metal-óxido-semiconductor (MOSFET) de carburo de silicio (SiC) con alto k de 1.2 kV en condiciones extremas de conmutación repetitiva

Stephan Wirths, Andrei Mihaila, Nick Schneider, Gianpaolo Romano, Yulieth Arango, Lars Knoll

Hitachi Energy, Suiza

Del 31/05/2021 al 03/06/2021
de 03:00 a 08:50 h

Sesión de pósteres académicos: Tecnología y dispositivos de carburo de silicio (SiC)

Histéresis de voltaje límite transitorio dependiente de temperatura en transistores de efecto de campo metal-óxido-semiconductor (MOSFET) de carburo de silicio (SiC) e implicancias para eventos de cortocircuito

Elena Mengotti1, Enea Bianda1, David Baumann1, Renos Papamichalis1, Andrei Mihaila2, Stephan Wirths2

1) ABB Switzerland Ltd.; 2) Hitachi Energy Ltd., Suiza

Del 31/05/2021 al 03/06/2021
de 03:00 a 08:50 h

Sesión de pósteres académicos: Tecnología y dispositivos de carburo de silicio (SiC)

Evaluación de capacidad de sobrecorriente de transistores de efecto de campo metal-óxido-semiconductor (MOSFET) de carburo de silicio (SiC) de 6.5 kV con diseños de celdas 3D

Kaloyan Naydenov2, Nazareno Donato2, Florin Udrea2, Andrei Mihaila1, Gianpaolo Romano1, Stephan Wirths1, Lars Knoll1

1) Hitachi Energy Ltd., Suiza; 2) Universidad de Cambridge, Reino Unido

Del 31/05/2021 al 03/06/2021
de 03:00 a 08:50 h

Sesión de pósteres académicos: Tecnología y dispositivos de carburo de silicio (SiC)

Comportamiento dinámico resistente de transistores de efecto de campo metal-óxido-semiconductor (MOSFET) de carburo de silicio (SiC) de 3.3 kV con dieléctrico de puerta de alto k

Gianpaolo Romano, Stephan Wirths, Andrei Mihaila, Yulieth Arango, Antoni Ruiz, Lars Knoll

Hitachi Energy, CH

Conferencia virtual del Simposio Internacional sobre Dispositivos Semiconductores de Energía y Circuitos Integrados (ISPSD) 2021