Conferencia completamente virtual de Nagoya
El 33.er Simposio Internacional sobre Dispositivos Semiconductores de Energía y Circuitos Integrados (ISPSD) se llevará a cabo del 30 de mayo al 3 de junio de 2021 como CONFERENCIA COMPLETAMENTE VIRTUAL.
El Simposio incluye debates técnicos sobre dispositivos semiconductores de energía y circuitos integrados, tecnologías híbridas y aplicaciones relacionadas.
Contribuciones de Hitachi Energy
Fecha/hora (Hora de Europa Central) |
Transmisión |
Documento técnico |
Autores |
Miércoles 02/06/2021 |
Sesión 6: Resistencia y fiabilidad de dispositivos de carburo de silicio (SiC) |
Estudio de estabilidad con voltaje límite de transistor de efecto de campo metal-óxido-semiconductor (MOSFET) de carburo de silicio (SiC) con alto k de 1.2 kV en condiciones extremas de conmutación repetitiva |
Stephan Wirths, Andrei Mihaila, Nick Schneider, Gianpaolo Romano, Yulieth Arango, Lars Knoll Hitachi Energy, Suiza |
Del 31/05/2021 al 03/06/2021 |
Sesión de pósteres académicos: Tecnología y dispositivos de carburo de silicio (SiC) |
Histéresis de voltaje límite transitorio dependiente de temperatura en transistores de efecto de campo metal-óxido-semiconductor (MOSFET) de carburo de silicio (SiC) e implicancias para eventos de cortocircuito |
Elena Mengotti1, Enea Bianda1, David Baumann1, Renos Papamichalis1, Andrei Mihaila2, Stephan Wirths2 1) ABB Switzerland Ltd.; 2) Hitachi Energy Ltd., Suiza |
Del 31/05/2021 al 03/06/2021 |
Sesión de pósteres académicos: Tecnología y dispositivos de carburo de silicio (SiC) |
Evaluación de capacidad de sobrecorriente de transistores de efecto de campo metal-óxido-semiconductor (MOSFET) de carburo de silicio (SiC) de 6.5 kV con diseños de celdas 3D |
Kaloyan Naydenov2, Nazareno Donato2, Florin Udrea2, Andrei Mihaila1, Gianpaolo Romano1, Stephan Wirths1, Lars Knoll1 1) Hitachi Energy Ltd., Suiza; 2) Universidad de Cambridge, Reino Unido |
Del 31/05/2021 al 03/06/2021 |
Sesión de pósteres académicos: Tecnología y dispositivos de carburo de silicio (SiC) |
Comportamiento dinámico resistente de transistores de efecto de campo metal-óxido-semiconductor (MOSFET) de carburo de silicio (SiC) de 3.3 kV con dieléctrico de puerta de alto k |
Gianpaolo Romano, Stephan Wirths, Andrei Mihaila, Yulieth Arango, Antoni Ruiz, Lars Knoll Hitachi Energy, CH |